スルホン酸 の意味・用法を知る

前記１種の共重合体Ａが、重合性不飽和 スルホン酸 単量体を構成単位として含み、前記共重合体Ａ中に含有される該重合性不飽和スルホン酸単量体の含有量が１モル％〜９モル％の範囲に属する共重合体である、請求項２又は３に記載のスケール防止剤。

• 公開日：2016/09/01
• 出典：スケール防止剤及びスケール防止方法
• 出願人：栗田工業株式会社

有機モノ スルホン酸 （ａ）およびアミノ酸（ｂ）を含有するアルミニウム系金属用洗浄剤組成物である。

• 公開日：2016/08/18
• 出典：アルミニウム系金属用洗浄剤組成物
• 出願人：第一工業製薬株式会社

これは、強酸である スルホン酸 が上記のπ共役系ポリマーと効率良く相互作用するためである。

• 公開日：2016/11/04
• 出典：導電性ポリマー複合体及び基板
• 出願人：信越化学工業株式会社

更に、 スルホン酸 、イミド酸又はメチド酸を発生する酸発生剤を含む請求項１記載のレジスト材料。

• 公開日：2017/04/27
• 出典：レジスト材料及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

スルホン酸 は、生物学的サンプル中のアナライトのより正確およびより確実な検出を提供するために、ＥＬＩＳＡなどのアッセイにおいて、使用され得る。

• 公開日：2015/07/09
• 出典：スルホン酸を含むインビトロの診断テスト用組成物および方法
• 出願人：サーモディクスアイヴィディインコーポレイテッド

ハロアルカン スルホン酸 又はその塩を含むヘムタンパク質の保存液、及びヘムタンパク質を含む試料中にハロアルカンスルホン酸又はその塩を共存させるヘムタンパク質の安定化方法。

• 公開日：2016/11/10
• 出典：ヘムタンパク質の保存液及びヘムタンパク質の安定化方法
• 出願人：栄研化学株式会社

本発明は、反応媒体中で、少なくとも１つの第三級アルコール基を有する成分を、少なくとも１つの第三級ヒドロペルオキシド官能基を有する化合物で、触媒の存在下で処理する工程を含む、過酸化物を調製するための方法において、触媒が スルホン酸 及び無機酸を含み、スルホン酸と少なくとも１つの第三級アルコール基を含む前述の成分との間のモル比が０．０５〜０．８の範囲にあり、無機酸と少なくとも１つの第三級アルコール基を含む前述の成分との間のモル比が０．０５〜０．８の範囲にあることを特徴とする、方法に関する。

• 公開日：2016/09/08
• 出典：有機過酸化物を調製するための方法
• 出願人：アトフイナ

...カルボキシチオフェノール、１−ヒドロキシ−７−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−６−カルボキシナフタレン、１−ヒドロキシ−５−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−７−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−６−カルボキシナフタレン、１−メルカプト−５−カルボキシナフタレン、３−カルボキシベンゼン スルホン酸 、４−カルボキシベンゼンスルホン酸などのモノカルボン酸類およびこれらのカルボキシル基がエステル化した活性エステル化合物、無水フタル酸、無水マレイン酸、ナジック酸無水物、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、３−ヒドロキシフタル酸無水物などの酸無水物、ジカルボン酸であるフタル酸、マレイン酸、ナジ...

• 公開日：2019/10/03
• 出典：ジアミン化合物、それを用いた耐熱性樹脂および樹脂組成物
• 出願人：東レ株式会社

...水）フタル酸、（無水）マレイン酸、（無水）イタコン酸等の不飽和酸類あるいはその塩あるいは炭素数１〜１８のモノまたはジアルキルエステル類；アクリルアミド、炭素数１〜１８のＮ−アルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、２−アクリルアミドプロパン スルホン酸 、アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸あるいはその塩、アクリルアミドプロピルジメチルアミンあるいはその酸塩あるいはその４級塩等のアクリルアミド類；メタアクリルアミド、炭素数１〜１８のＮ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、２−メタクリルアミドプロパンスルホン酸あるいはその塩、メタクリルアミドプロピルジメ...

• 公開日：2019/10/03
• 出典：樹脂組成物及びそれを用いた多層構造体
• 出願人：三菱レイヨン株式会社

...ン、３−ビス（α,α−ジメチル−４−アミノベンジル）ベンゼン、ビス（４−メチルアミノペンチル）ベンゼン、ｐ−ビス（２−メチル−４−アミノペンチル）ベンゼン、１,４−ビス（３−アミノプロピルジメチルシリル）ベンゼン、ビス［（４−アミノフェニル）−２−プロピル］１,４−ベンゼン、２,５−ジアミノベンゼン スルホン酸 、３,３'−ジアミノジフェニルメタン、４,４'−ジアミノジフェニルメタン、３,３'−ジメチル−４,４'−ジアミノジフェニルメタン、３,３',５,５'−テトラメチル−４,４'−ジアミノジフェニルメタン、３,３'−ジエチル−４,４'−ジアミノジフェニルメタン、３,３'−ジメチル−５,５'−ジエ...

• 公開日：2019/10/03
• 出典：ＦＲＰ前駆体の製造方法、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び半導体パッケージの製造方法
• 出願人：日立化成株式会社