スパッタ装置 の意味・用法を知る

また、本実施形態においては、製造装置としてドライエッチング装置を例にとって説明したが、これに限らずプラズマＣＶＤ装置や スパッタ装置 、ウェットエッチング装置、レジスト塗布装置、露光装置等にも適用することができる。

• 公開日： 1999/01/22
• 出典： 製造装置の処理データ監視システム
• 出願人： シャープ株式会社

例えば、上記実施形態では、成膜装置としてＣＶＤ装置を例示したが、成膜装置はＣＶＤ装置に限らず、膜を堆積する装置であれば適用できる。例えば、ＡＬＤ装置や スパッタ装置 にも適用することができる。

• 公開日： 2010/03/18
• 出典： 石英ヒーター及び成膜装置
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

また、上記実施例は、半導体製造装置をプラズマエッチング装置とした場合であるが、反応状態をプラズマ状態から検出する半導体製造装置であれば、例えば、プラズマＣＶＤ装置や スパッタ装置 であっても良い。

• 公開日： 1997/08/19
• 出典： 半導体製造装置における反応検出方法
• 出願人： ソニー株式会社

また、本実施の形態では、ＣＶＤやＲＩＥに対する装置シミュレーション等について説明したが、装置シミュレーションはこれらの装置に限られず、他の装置であってもよい。例えば、 スパッタ装置 等に対して装置シミュレーションを行なってもよい。

• 公開日： 2007/06/14
• 出典： シミュレーション装置、シミュレーションプログラムおよびシミュレーション方法
• 出願人： 株式会社東芝

尚、上記各実施の形態ではエッチング処理を行う半導体製造装置について説明したがこれに限られることはなく、処理室内において異物が発生する半導体製造装置であれば同様に用いることができることは言うまでもない。例えば、ＣＶＤ装置、 スパッタ装置 、イオン注入装置、拡散装置などが適用可能である。

• 公開日： 1997/08/19
• 出典： 半導体製造装置
• 出願人： 三菱電機株式会社

なお、ここで使った製造装置である真空蒸着装置、集束イオンビーム装置は、金属膜が形成出来る成膜装置、金属膜が加工できる装置であれば、特段の限定はない。真空蒸着装置としては、抵抗加熱式装置、電子ビーム加熱式装置、 スパッタ装置 、ＣＶＤ装置などを利用してもよい。また、集束イオンビーム装置の代わりにイオンミリング装置を利用してもよい。ただしイオンミリング装置を使う場合は、所望の形状を加工するため、レジスト塗布、露光など複数の工程が追加される。

• 公開日： 2011/09/22
• 出典： 位相板およびこれを用いた位相差電子顕微鏡
• 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社

スパッタ装置 等のプラズマ処理装置内でプラズマ放電を発生させるためには、プラズマ放電に寄与するためのガスを一定量以上、プラズマ処理装置内に導入することが必要となる。

• 公開日： 2001/02/09
• 出典： プラズマ発生方法及びプラズマ処理装置
• 出願人： パナソニック株式会社

液晶表示装置に用いる基板の大型化に伴い、ＣＶＤ装置、エッチング装置、アッシング装置または スパッタ装置 等の基板処理装置も大型化し、例えば並行平板型のプラズマ処理装置では、基板表面の全面にわたっての均一な処理が困難になりつつある。

• 公開日： 1999/12/10
• 出典： 基板処理装置
• 出願人： シャープ株式会社