サンプルホルダー の意味・用法を知る
サンプルホルダー とは、サンプリング、試料調製 や自動分析、そのための試料等の取扱い などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社島津製作所 や株式会社ニコン などが関連する技術を4,995件開発しています。
このページでは、 サンプルホルダー を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
サンプルホルダーの意味・用法
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本発明の根底となる問題は、それぞれのサンプルの操作の改善を可能にする、 サンプルホルダー 、サンプルホルダーシステム及び生検用具からサンプルホルダーへサンプルを移動する方法を提供する
- 登録日:2020/01/17
- 出典:原子間力顕微鏡用のサンプルホルダー
- 出願人:ウニヴェルズィテート・バーゼル
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本発明は、サンプルを保持するための、具体的には原子間力顕微鏡用の、 サンプルホルダー (1)に関する。本発明によれば、サンプルホルダー(1)は、好ましくは上側(10a)及び前記上側(10a)から離れて面する下側(10b)を有する柔軟性支持部材(10)と、第1及び第2保持部材(100、200)であって、各々の保持部材(100、200)が好ましくは前記柔軟性支持部材(10)の前記上側(10a)と接続する第1部分(101、201)、及びそれぞれの前記保持部材(100、200)の先端(103、203)を形成する反対側にある第2部分(102、202)を備え、前記保持部材(100、200)がそれぞれ、前記先端...
- 公開日:2016/10/06
- 出典:AFM用のサンプルホルダー
- 出願人:ウニヴェルズィテート・バーゼル
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...料を生成することを特徴とし;ii)前記静止位置は、前記コーティングドナーホルダーが前記第1のイオンビームの中心軸の光路内に前記コーティング材料を配置しないことを特徴とし;c)リフティング軸及びリフティングドライブを有し、前記第1のイオンビームの中心軸に対する所定の位置及び方向で前記サンプルを保持する サンプルホルダー を着脱可能に保持するように構成されたサンプル保持ステージ;i)前記リフティングドライブは、前記リフティング軸に沿ってミリング位置とコーティング位置との間で前記サンプル保持ステージを移動するように動作可能であり;A)前記ミリング位置は、前記第1のイオンビームの中心軸の光路内に前記サンプ...
- 公開日:2017/09/07
- 出典:サンプルの準備及びコーティングのためのイオンビーム装置
- 出願人:ガタンインコーポレイテッド
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具体的には、試料を直径25mmの サンプルホルダー にセッティングし、昇温速度1℃/min、周波数6.28rad/s、歪み20%以下、測定保証値の範囲内の検出トルクの測定条件で、温度変化に対する貯蔵弾性率GN(Pa)、損失弾性率GL(Pa)の変化を得る。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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樹脂フィルムがない状態でバックグランド測定を行った後、樹脂フィルムを サンプルホルダー にセットして、波長300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求めた。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:前面板付き偏光板
- 出願人:住友化学株式会社
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具体的には、試料をアルミニウム製パンKITNo.B0143013に封入し、熱分析装置 Diamond DSC(パーキンエルマー社製)の サンプルホルダー にセットして、加熱、冷却、加熱の順に温度を変動させる。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:静電荷像現像用トナー
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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試料(チタニルフタロシアニン)をX線回折装置(例えば、株式会社リガク製「RINT(登録商標)1100」)の サンプルホルダー に充填して、X線管球Cu、管電圧40kV、管電流30mA、かつCuKα特性X線の波長1.542Åの条件で、X線回折スペクトルを測定する。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:電子写真感光体
- 出願人:京セラドキュメントソリューションズ株式会社
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(粉末X線回折) 上記で得られた共有結合性有機構造体の焼成体の粉末約0.02gを、 サンプルホルダー に乗せて整地し、回折を行った。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:共有結合性有機構造体の焼成体およびその製造方法
- 出願人:星和電機株式会社
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(粉末X線回折) 上記で得られた共有結合性有機構造体組成物を赤褐色の状態および黒色の状態で、それぞれの粉末約0.02gを、 サンプルホルダー に乗せて整地し、回折を行った。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:共有結合性有機構造体、共有結合性有機構造体組成物および共有結合性有機構造体組成物の製造方法
- 出願人:星和電機株式会社
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具体的には、耐燃焼性試験で は、グラウンドに対して45度の角度で膜及びISOボードを配置する サンプルホルダー 上の半インチISOボードに対して、ゴムサンプルをステープルで留めた。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:難燃剤として膨張性黒鉛を有する屋根材膜
- 出願人:ファイヤーストーンビルディングプロダクツカンパニーエルエルシー
サンプルホルダーの原理 に関わる言及
サンプルホルダーの問題点 に関わる言及
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
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放射線を利用した材料分析
- 試料入射粒子(源),刺激(含意図外,直分析外)
- 利用,言及生起現象;分折手法(含意図外、直分析外)
- 試料出射粒子(含意図外,直分析外)
- 検出器関連言及
- 分光;弁別(E,λ;e/m;粒子)
- 信号処理とその周辺手段(測定出力提供とその精度向上関連
- 測定内容;条件;動作等関連変数,量ψ
- 表示;記録;像化;観察;報知等
- 制御;動作;調整;安定化;監視;切換;設定等
- 分析の目的;用途;応用;志向
- 対象試料言及(物品レベル)
- 試料形状言及
- 検出;定量;着目物質とその構成元素;関連特定状態等
- 測定前後の試料の動き
- 試料保特,収容手段;状態等
- 試料作成;調製;試料及び他部分に対する処理;措置等
- 機能要素;部品素子;技術手段要素等;雑特記事項その他
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ