コンタクトホ と関連性が強い分野一覧

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エッチングと化学研磨(つや出し) 株式会社東芝 レジストパタ-ンの形成方法 技術一覧を見る
レーザ加工 株式会社東芝 半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
フォトリソグラフィー用材料 株式会社東芝 レジストパタ-ンの形成方法 技術一覧を見る
ダイオード 株式会社東芝 半導体集積回路装置の製造方法 技術一覧を見る
バイポーラIC 株式会社東芝三菱電機株式会社 半導体集積回路装置の製造方法 技術一覧を見る
ホトレジストの材料 株式会社東芝 レジストパタ-ンの形成方法 技術一覧を見る
レーザ(2) 株式会社東芝 半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
半導体の電極 株式会社東芝沖電気工業株式会社三星電子株式會社 SOI構造を有する半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
ボンディング 株式会社東芝 半導体装置及びその製造方法 技術一覧を見る
ICの設計・製造(配線設計等) 三菱電機株式会社三菱電機エンジニアリング株式会社セイコーエプソン株式会社 ゲートアレイ 技術一覧を見る
素子分離 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
ウェットエッチング 株式会社東芝三星電子株式會社 半導体装置及びその製造方法 技術一覧を見る
液晶4(光学部材との組合せ) パナソニック株式会社 反射型液晶表示装置とその製造方法 技術一覧を見る
感光性樹脂・フォトレジストの処理 株式会社東芝 レジストパタ-ンの形成方法 技術一覧を見る
半導体集積回路 三星電子株式會社三菱電機株式会社 強誘電体キャパシタ及びその製造方法 技術一覧を見る
洗浄、機械加工 三星電子株式會社 半導体素子の配線形成方法 技術一覧を見る
絶縁ゲート型電界効果トランジスタ 株式会社東芝東芝マイクロエレクトロニクス株式会社パナソニック株式会社 反射型液晶表示装置とその製造方法 技術一覧を見る
MOSIC,バイポーラ・MOSIC 株式会社東芝東芝マイクロエレクトロニクス株式会社ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
不揮発性半導体メモリ セイコーエプソン株式会社 マスタスライス型半導体集積装置 技術一覧を見る
絶縁膜の形成 現代電子産業株式会社 半導体素子のコンタクトホ-ル形成方法 技術一覧を見る
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