パルス変調 の意味・用法を知る
パルス変調 とは、半導体のドライエッチング やプラズマの発生及び取扱い などの分野において活用されるキーワードであり、シャープ株式会社 や株式会社日立ハイテクサイエンス などが関連する技術を6,670件開発しています。
このページでは、 パルス変調 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
パルス変調の意味・用法
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本発明は、第一のガスと第二のガスを用いて被エッチング膜をプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、前記第一のガスは、前記被エッチング膜のエッチングを促進させるガスであり、前記第二のガスは、前記被エッチング膜の側壁に反応層を形成させるガスであり、前記第一のガスを供給している間、前記第二のガスの供給を パルス変調 させることを特徴とする。
- 公開日:2016/02/01
- 出典:プラズマ処理方法
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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所定の周波数の局部発振器が出力するローカル信号を パルス変調 基準信号でパルス変調され、所定のタイミングで送信され、目標物に反射された、レーダ信号を受信するアンテナと、前記レーダ信号を増幅する増幅器と、増幅された前記レーダ信号を所定のサンプリング周波数でサンプリングするA−D変換器と、前記ローカル信号の周波数と前記パルス変調基準信号の周波数を加算した値との差が閾値以下である値、または前記サンプリング周波数から前記ローカル信号の周波数と前記パルス変調基準信号の周波数を減算した値との差が閾値以下である値、を周波数とする受信側パルス変調基準信号を出力する発振器と、前記受信側パルス変調基準信号の位相を調節...
- 公開日:2014/08/07
- 出典:レーダ装置およびレーダ信号受信方法
- 出願人:三菱電機株式会社
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外部に設けられプラズマを生成するプラズマ生成部へ、一定および パルス変調 の高周波電力を供給するプラズマ生成用電源装置において、前記パルス変調の高周波電力のパルスデューティ比および前記パルス変調の高周波電力のレベルおよび前記パルス変調の高周波電力の増幅素子の消費電流により、前記パルス変調の高周波電力の増幅素子のドレイン電源電圧を切り替えることを特徴とするプラズマ生成用電源装置の制御方法。
- 公開日:2017/03/09
- 出典:プラズマ生成用電源装置およびその制御方法
- 出願人:株式会社日立国際電気
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先ず一つ目の課題は、マイクロ波のみを パルス変調 し、連続した高周波バイアスを印加すると、マイクロ波がオフしている期間、すなわち電子温度が下がる期間に、高周波バイアス電源のピーク・トウ・ピーク電圧(以下、Vppと称する)が跳ね上がる現象が発生することである
- 公開日:2016/02/18
- 出典:プラズマ処理装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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本発明は、放電時に直列に接続される複数の放電モジュールと、前記複数の放電モジュールに対応し、対応する放電モジュールを導通するように、それぞれが対応する放電モジュールにトリガ信号を提供する複数のトリガと、前記複数の放電モジュールを順次に遅延して導通するように、トリガ信号を制御するための制御ロジックモジュールと、電圧を出力するための出力端と、を備える パルス変調 電源を提供する。
- 公開日:2015/02/16
- 出典:パルス出力を制御するためのデバイス及び方法
- 出願人:清華同方威視技術股分有限公司
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プラズマを発生させるためのマイクロ波をパルス状に パルス変調 し、オン時のマイクロ波電力値をカットオフ現象が生じる電力値より高く設定し、デューティー比を65%以下、好ましくは50%以下に変化させることにより、マイクロ波の平均電力を制御する。
- 公開日:2013/04/22
- 出典:ドライエッチング方法およびプラズマエッチング装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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パルス変調 後の信号の立上り及び立下りにおいてジッタが発生しないようにする。
- 公開日:2011/11/24
- 出典:パルス変調装置及びパルス変調方法
- 出願人:NECネットワーク・センサ株式会社
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絶縁部の出力から負帰還信号を発生させる負帰還信号発生部と、絶縁部の出力から発生した負帰還信号と入力オーディオ信号との合成信号を パルス変調 して、パルス変調されたオーディオ信号を発生させるパルス変調部と、前記パルス変調されたオーディオ信号に基づいて、直流電圧をスイッチングするスイッチング部と、前記スイッチング部の出力を変成して出力する絶縁トランスと、前記パルス変調されたオーディオ信号をフォトカップリングして、前記スイッチング部に提供するフォトカプラーと、前記絶縁トランスの出力を低域通過フィルタリングして、前記オーディオ信号に相応する出力オーディオ信号を出力する低域通過フィルタと、を備え、前記スイッ...
- 登録日:2013/11/22
- 出典:デジタルオーディオ信号増幅器及びこれに適したデジタルオーディオ信号増幅方法
- 出願人:サムスンエレクトロニクスカンパニーリミテッド
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光伝送路に入射されたレーザ光を光カプラ4−1で2分岐し、分岐されたレーザ光をそれぞれ強度変調器3−1,3−2で パルス変調 し、パルス変調された一方のパルス光を試験光として被測定光ファイバ7に入射し、当該ファイバ7からの後方散乱光を光カプラ4−2で取り出し、パルス変調された他方のパルス光を参照光として光カプラ4−3にて被測定光ファイバ7からの後方散乱光に合波することでコヒーレント検波し、検波された信号を用いてサンプリングよるOTDR波形を求める。
- 公開日:2011/03/24
- 出典:光線路特性測定方法及び装置
- 出願人:東日本電信電話株式会社
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超音波デバイス20は、特定のビーム特性を実現するためにパターン変更時に同時に又は互いに独立して パルス変調 されうる。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:表面洗浄のためのシステム及び方法
- 出願人:ザ・ボーイング・カンパニー
パルス変調の問題点 に関わる言及
パルス変調の特徴 に関わる言及
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更に、本方法を具現化する機構を付帯する現像装置であって、現像手段へ循環再使用する液体現像液を供給して現像する液体現像剤現像機構、赤外LEDの パルス変調 発光による光学的液体現像剤濃度測定手段、及び測定された液体現像剤濃度を所期設定域と比較し、循環再使用液体現像剤中に液体現像剤補充液を補充して所期設定域に保持する液体現像剤濃度制御手段を有する現像装置を用いて現像することで、上記目的は達成された。
- 公開日: 1994/09/02
- 出典: 液体現像剤の濃度検出方法及び現像装置
- 出願人: 三菱製紙株式会社
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このうち、アナログ変調には、パルス振幅変調、パルス幅変調、パルス位相変調、及びパルス周波数変調が含まれ、一方、デジタル変調には、パルス密度変調とパルス符号変調とが含まれる。ただし、照明部15に供給される電力は直流であるため、交流変換を行なってから パルス変調 を行う。
- 公開日: 2002/03/22
- 出典: 照明機能付き携帯端末機及び照明制御方法
- 出願人: 埼玉日本電気株式会社
パルス変調の使用状況 に関わる言及
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増幅器一般
- 増幅器の種類(AA01−04の中から必ず1つ以上付与)
- 目的・効果
- 解決手段、解決思想
- 回路素子
- 回路要素
- 接続及び構成
- 構造
- 用途
- 図面情報(半導体構造、断面図、実体図はQA01−04に付与)
- ゲート増幅器の種類
- 双方向増幅器の種類
- 組合せ増幅器の目的・効果
- マイクロ波回路要素
- 入力段構成
- 増幅部構成
- 出力段構成
- 光受信信号増幅器
- 低周波及び高周波増幅器
- 変調型増幅器の目的
- 変調型増幅器の要素、構成
- 温度補償、電源電圧補償の目的
- 帰還の目的
- 温度補償、電源電圧補償の手段
- 歪低減のための手段
- 補償に用いる素子・構成要素、帰還回路の素子・構成要素
- 帰還の種類
- 帰還回路の構成
- 異常検出手段
- 保護手段
- 雑音発生防止手段
- 効率向上の手段
- 雑音発生源及び種類
- 電力増幅器の特殊な構成
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ
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エッチングと化学研磨(つや出し)
- ドライエッチングの目的
- ドライエッチングの対象材料
- ドライエッチングの前処理
- ドライエッチング方式
- ドライエッチングガス
- ドライエッチング条件制御
- ドライエッチングの終点検知
- ドライエッチングの後処理
- ドライエッチング装置
- ドライエッチングの用途
- ウエットエッチングの目的
- ウエットエッチングの対象材料
- ウエットエッチングの前処理
- ウエットエッチング方式
- ウエットエッチング液(主成分)
- ウエットエッチング液(添加剤)
- ウエットエッチング条件制御
- ウエットエッチング液の再生
- ウエットエッチングの終点検知
- ウエットエッチングの後処理
- ウエットエッチング液の管理
- ウエットエッチング装置
- ウエットエッチングの用途