アクリロイルオキシ の意味・用法を知る
アクリロイルオキシ とは、付加系(共)重合体、後処理、化学変成 や歯科用製剤 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社ダイセル やクラレノリタケデンタル株式会社 などが関連する技術を46,875件開発しています。
このページでは、 アクリロイルオキシ を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
アクリロイルオキシの意味・用法
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...タ)アクリレート;塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニリデンなどのハロゲン化ビニルおよびビニリデン;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル;(メタ)アクリルアマイド(以下、アクリルアマイドとメタアクリルアマイドの総称として「(メタ)アクリルアマイド」と記載する);N−(メタ) アクリロイルオキシ エチル−アセトアマイド、N−(メタ)アクリロキシプロピル−アセトアマイド、N−(メタ)アクリロキシイソプロプル−アセトアマイド、N−(メタ)アクリロキシブチル−アセトアマイド、N−(メタ)アクリロキシプロピル−アセトアマイドなどのN−(メタ)アクリロキシアルキル−アセトアマイドなど...
- 公開日:2017/04/06
- 出典:歯科用組成物
- 出願人:サンメディカル株式会社
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リン酸基及び(メタ) アクリロイルオキシ 基を有する化合物としては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルジハイドロジェンホスフェート、ビス[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]ハイドロジェンホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルアシッドホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシブチルアシッドホスフェート、8−(メタ)アクリロイルオキシデシルアシッドホスフェート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルジハイドロジェンホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルジハイドロジェンホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルジハイドロジェンホスフェート、5−(メタ)ア...
- 公開日:2017/11/09
- 出典:歯科用接着剤セット
- 出願人:株式会社ジーシー
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なお、本明細書中、アクリロイルとメタクリロイルとを総称して(メタ)アクリロイル、 アクリロイルオキシ とメタクリロイルオキシとを総称して(メタ)アクリロイルオキシ、アクリロイルチオとメタクリロイルチオとを総称して(メタ)アクリロイルチオ、アクリルアミドとメタクリルアミドとを総称して(メタ)アクリルアミドと称することもある。
- 公開日:2017/03/16
- 出典:親水性硬化物用組成物
- 出願人:三井化学株式会社
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リン酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2−(メタ) アクリロイルオキシ エチルジハイドロジェンホスフェート(2−アクリロイルオキシエチルジハイドロジェンホスフェート又は2−メタクリロイルオキシエチルジハイドロジェンホスフェートを意味する)、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルジハイドロジェンホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルジハイドロジェンホスフェート、5−(メタ)アクリロイルオキシペンチルジハイドロジェンホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルジハイドロジェンホスフェート、7−(メタ)アクリロイルオキシヘプチルジハイドロジェンホスフェート、8−(メタ)アクリ...
- 公開日:2018/01/11
- 出典:歯科用組成物
- 出願人:株式会社ジーシー
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...シプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジ(メタ) アクリロイルオキシ プロパン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4...
- 公開日:2018/01/11
- 出典:歯科用プライマー
- 出願人:株式会社ジーシー
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(A)水酸基価が160mgKOH/g以上220mgKOH/g以下である、3価以上の脂肪族多価アルコール化合物の(メタ)アクリル酸付加物と、(B)(2−(メタ) アクリロイルオキシ エチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートと、(C)有機イソシアネート化合物との反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートを含有するものとする。
- 公開日:2017/09/28
- 出典:活性エネルギー線硬化型組成物
- 出願人:第一工業製薬株式会社
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...類; アクリロイルオキシ メチルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシメチルジメトキシメチルシラン、アクリロイルオキシメチルメトキシジメチルシラン、メタアクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、メタアクリロイルオキシメチルジメトキシメチルシラン、メタアクリロイルオキシメチルメトキシジメチルシラン、2−アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2−アクリロイルオキシエチルジメトキシメチルシラン、2−アクリロイルオキシエチルメトキシジメチルシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルジメトキシメチルシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルメトキシジメ...
- 公開日:2016/12/15
- 出典:被覆物品の製造方法、塗料及び積層体
- 出願人:信越化学工業株式会社
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[054]本発明での使用に適するネマチック化合物の非限定的な具体例として、次の化合物が挙げられるが、これらだけに限らない:2−メトキシベンゼン−1,4−ジイル ビス[4−({[4−( アクリロイルオキシ )ブトキシ]カルボニル}オキシ)ベンゾエート];4−{[4−({[4−(アクリロイルオキシ)ブトキシ]カルボニル}オキシ)ベンゾイル]オキシ}−2−メトキシフェニル 4−({[4−(アクリロイルオキシ)ブトキシ]カルボニル}オキシ)−2−メチルベンゾエート;2−メトキシベンゼン−1,4−ジイル ビス[4−({[4−(アクリロイルオキシ)ブトキシ]カルボニル}オキシ)−2−メチル−ベンゾエート...
- 登録日:2019/06/21
- 出典:光学的に可変なセキュリティ特徴を製造する輪転グラビア印刷方法
- 出願人:シクパホルディングスソシエテアノニム
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リン酸基含有(メタ)アクリル系重合性単量体としては、例えば、2−(メタ) アクリロイルオキシ エチルジハイドロジェンホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルジハイドロジェンホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルジハイドロジェンホスフェート、5−(メタ)アクリロイルオキシペンチルジハイドロジェンホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルジハイドロジェンホスフェート、7−(メタ)アクリロイルオキシヘプチルジハイドロジェンホスフェート、8−(メタ)アクリロイルオキシオクチルジハイドロジェンホスフェート、9−(メタ)アクリロイルオキシノニルジハイドロジェンホスフェート、1...
- 公開日:2017/04/20
- 出典:自己接着性歯科用コンポジットレジン
- 出願人:クラレノリタケデンタル株式会社
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好適に使用できる酸性モノマーとしては、2−(メタ) アクリロイルオキシ エチルジハイドロジェンホスフェート、ビス[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]ハイドロジェンホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルハイドロジェンホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルジハイドロジェンホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルフェニルハイドロジェンホスフェート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルジハイドロジェンホスフェート、1,3−ジ(メタ)アクリロイルプロパン−2−ジハイドロジェンホスフェート、1,3−ジ(メタ)アクリロイルプロパン−2−フェニルハイドロジェンホ...
- 公開日:2021/01/07
- 出典:化学重合開始剤、接着性組成物、接着性組成物キット、歯科用材料、歯科用材料キットおよび接着性組成物の保管方法
- 出願人:株式会社トクヤマデンタル
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付加系(共)重合体、後処理、化学変成
- オレフィン
- 芳香族オレフィン
- ハロゲン化オレフィン
- 不飽和アルコール
- 不飽和エーテル
- ケテン,不飽和アルデヒド,ケトン,アセタール,ケタール系
- 不飽和アルコールと有機カルボン酸とのエステル
- 不飽和アルコールと有機カルボン酸外以外とのエステル他
- 不飽和カルボン酸
- 不飽和カルボン酸塩,無水物、ハライド他
- 不飽和カルボン酸エステル
- 不飽和ニトリル,アミド,イミド
- N停止オレフィン
- S,P,Se,Te,B,Si,金属等停止オレフィン
- 複素環停止オレフィン
- 環状オレフィン
- ポリエン
- 炭素—炭素三重結合含有化合物
- その他の不飽和炭化水素
- 置換基1—構成元素—
- 置換基2—ハロゲン—
- 置換基3−環−
- 置換基4—特性、機能等—
- 全体構造
- ポリマーの物性
- ポリマーの形態
- 製造方法に特徴があるもの
- 触媒残渣に対する処理
- 未反応単量体に対する処理
- 生成重合体に対する処理
- 上記以外の対象物に対する処理
- 変性反応→該当する反応を全て付与
- 変性時に使用する化合物1—無機化合物—
- 変性時に使用する化合物2—有機化合物—
- 変性反応時に使用する化合物3 —機能、特性等—
- 変性反応条件
- 装置・システム
- 変性される樹脂
- 用途
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製;分離;安定化;その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制(反応工学的手法によるもの→BD)
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
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- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜
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重合方法(一般)
- 重合方法(改良目的)
- 重合方法(重合条件・制御)
- 重合方法(重合操作)
- 単量体又は触媒の添加方法(添加方法改良の目的)
- 単量体又は触媒の添加方法(対象物,手段)
- 含浸又は基体表面上における重合(基材)
- 含浸又は基体表面上における重合(含浸・被覆目的)
- 含浸又は基体表面上における重合(方法・操作)
- 重合装置(重合形態)
- 重合装置(構造,機能)
- スケールの防止(添加剤の添加)
- スケールの防止(反応壁への薬剤塗布)
- スケールの防止(その他の手段によるスケール防止)
- 塊状重合(改良目的)
- 塊状重合(装置・方法)
- 成形重合(型の選定)
- 成形重合(装置,方法)
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- 溶液重合(装置,方法)
- 懸濁重合(補助剤)
- 懸濁重合(装置,方法)
- 乳化重合(補助剤)
- 乳化重合(装置,方法)
- 油中水型乳濁液中における重合
- 油中水型乳濁液中における重合(装置,方法)
- 気相重合(方法)
- 気相重合(装置)
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- 重合制御(制御目的)
- 重合制御(方法)
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- 配合成分の存在下における重合(配合成分の特質)
- 配合成分の存在下における重合(方法)
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- 波動エネルギ−、粒子線照射で重合するプレポリマー
- 特殊な規定の照射重合性モノマ−、プレポリマー
- 照射重合性モノマー、ポレポリマーと併用する非重合性高分子
- 光重合開始剤,増感剤
- 照射重合用補助剤
- 波動エネルギ−,粒子線の種類,照射装置・前後処理
- 照射重合時の形態,照射条件
- 照射重合技術の応用分野
- 波動エネルギ−、粒子線照射以外の重合開始方法
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塗料、除去剤
- 無機系フィルム形成性成分
- 有機天然高分子又は有機天然化合物
- ジエン系重合体、天然ゴム又は不特定のゴム
- オレフィンの(共)重合体
- 不飽和芳香族化合物の(共)重合体
- ハロゲン化オレフィンの(共)重合体
- 不飽和アルコール、エーテル、アルデヒド、ケトン、アセタール又はケタールの(共)重合体
- 飽和カルボン酸と不飽和アルコールとのエステルの(共)重合体
- 不飽和(ポリ)カルボン酸又はその誘導体の(共)重合体
- 不飽和(ポリ)カルボン酸エステルのアルコール残基
- 不飽和カルボン酸エステルと共重合する単量体
- 複素環の(共)重合体
- B、P、Se、Te又は他の金属を含有する単量体の(共)重合体
- 環内に重合性炭素−炭素二重結合を有する炭素環又は複素環の(共)重合体
- 炭素三重結合含有化合物の(共)重合体
- グラフト(共)重合体
- ブロック(共)重合体
- 不特定の(共)重合体又はその他の(共)重合体
- フェノール、アミノ又はアセタール樹脂(*)
- エポキシ樹脂
- 主鎖に炭素−炭素連結基を生成する(共)重合体
- ポリエステル系
- ポリカーボネート系
- ポリエーテル系
- ポリウレタン、ポリ尿素
- ポリアミド
- 窒素含有連結基ポリマー
- 硫黄含有連結基ポリマー
- けい素含有連結基高分子
- りん、ほう素又は金属含有高分子
- 構造不明又はその他の重縮合系高分子
- 不特定の又は構造不明の高分子
- 組成物に配合する重合性単量体
- 組成物に存在する化合物の官能基
- 無機添加剤(又はフィルム形成性成分)
- C、H、O又はハロゲン以外の元素を含まない有機添加剤
- Nを含みC、H、O又はハロゲン以外の元素を含まない有機添加剤
- O又はN以外の元素を含む有機添加剤及びその他の添加剤
- 添加剤の特性又は処理
- 組成物の製造方法又は処理
- 高分子、組成物の形態又は特性
- 目的又は効果
- フィルム形成方法
- 用途
- 被塗装素材
- 化学的塗膜又はインキ除去剤