半導体の洗浄、乾燥

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年2月～ 2021年2月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2021年2月 横　展　開 マニプレータ分野から三友セミコンエンジニアリング株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 異分野参入 液体または蒸気による洗浄分野から島田テクノロジー株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 横　展　開 皮（天然の皮、毛皮の処理叉は加工）分野からヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンが新規参入したことが分かりました。
• 2020年12月 横　展　開 食肉、魚の加工分野から国立大学法人鹿児島大学が新規参入したことが分かりました。
• 2020年10月 横　展　開 履物及びその付属品、製法、装置分野から日本電産株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年2月 横　展　開 公立大学法人大阪がダイオードに新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 公立大学法人大阪が再結晶化技術に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 公立大学法人大阪が熱的手段による材料の調査、分析に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 公立大学法人大阪が電気的手段による材料の調査、分析に新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 異分野参入 リージェンツオブザユニバーシティオブミシガンがメガネに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年1月 撤　退 朝日化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 インフィニオンテクノロジーズノースアメリカコーポレイションが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 株式会社ジャパンセミコンダクターが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 株式会社原田製作所が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 光洋機械工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． の技術「 欠陥の削減方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/26）

• 消滅 ウシオ電機株式会社 の技術「 光照射処理装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/21）

• 消滅 アキレス株式会社 の技術「 ダイシングウェーハ収納容器」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/16）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者