半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2012年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2012年1月～ 2022年1月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2021年8月 横　展　開 壁の仕上げ分野から株式会社ダン・タクマが新規参入したことが分かりました。
• 2021年6月 横　展　開 インクジェット（インク供給、その他）分野からマイクロクラフト株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 スクリーン印刷機分野からＡＩメカテック株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 人工魚礁分野から国立大学法人金沢大学が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 植物の栽培分野からヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学が半導体集積回路に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学がＭＯＳＩＣ，バイポーラ・ＭＯＳＩＣに新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学がアナログ←→デジタル変換に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学が論理回路１に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 マジックリープ，インコーポレイテッドがレンズ鏡筒に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年12月 撤　退 有限会社サイファー社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年12月 撤　退 株式会社レイトンが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年12月 撤　退 株式会社ハイパー・フォトン・システムが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年12月 撤　退 ニッコー・マテリアルズ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年12月 撤　退 ＪＦＥエンジニアリング株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 エーテル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2022/01/15）

• 消滅 東京エレクトロン株式会社 の技術「 基板処理装置および基板処理方法」の特許権利が消滅しました。

  （2022/01/11）

• 消滅 富士フイルム株式会社 の技術「 ポジ型感光性組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2022/01/10）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者