半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年4月～ 2019年4月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2019年3月 横　展　開 焦点調節分野から冨士ダイス株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2019年2月 横　展　開 インクジェット（インク供給、その他）分野からフジフイルムエレクトロニックマテリアルズユー．エス．エー．，インコーポレイテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2018年12月 横　展　開 写真製版における原稿準備・マスク分野から株式会社ファインサーフェス技術が新規参入したことが分かりました。
• 2018年12月 横　展　開 植物用支柱分野から株式会社サクラクレパスが新規参入したことが分かりました。
• 2018年12月 横　展　開 硫黄、窒素等及びそれらの化合物；過化合物分野から三福化工股分有限公司が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年3月 横　展　開 延世大学校産学協力団がＭＲＡＭ・スピンメモリ技術に新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 延世大学校産学協力団が磁性薄膜に新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 延世大学校産学協力団がホール／ＭＲ素子に新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 東芝メモリ株式会社が荷電粒子線装置に新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 宮城県が酸化物セラミックスの組成２に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年3月 撤　退 新中村化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年3月 撤　退 株式会社湯浅製作所が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年2月 撤　退 株式会社エイブルが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年2月 撤　退 ウィスコンシンアラムニリサーチファンデーションが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年2月 撤　退 アソシエイテッドユニヴァーシティーズインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 株式会社ニコン の技術「 露光装置、露光方法、及びレーザ光源」の特許権利が消滅しました。

  （2019/04/23）

• 消滅 シグニファイホールディングビーヴィ の技術「 専用鏡投写システムを備える走査リソグラフィック装置」の特許権利が消滅しました。

  （2019/04/22）

• 消滅 株式会社小松製作所 の技術「 温度制御用プレートの製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/04/21）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者