半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年11月～ 2019年11月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2019年9月 横　展　開 清浄化一般分野からディジタルメタルアーベーが新規参入したことが分かりました。
• 2019年8月 横　展　開 プラスチック等のその他の成形、複合成形（変更なし）分野からカーボン，インコーポレイテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2019年8月 横　展　開 エレクトロルミネッセンス光源分野からモーフォトニクスホールディングベスローテンフェノーツハップが新規参入したことが分かりました。
• 2019年7月 横　展　開 個々の半導体装置の試験分野からギガレーン・カンパニー・リミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 横　展　開 供給、排出、か焼、融解、ガス発生分野からアーエスエム・イーぺー・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年9月 横　展　開 アンスティチュポリテクニークドゥボルドーが光学的手段による材料の調査、分析に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 公立大学法人大阪が非銀塩感光材料および非銀塩写真法に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 公立大学法人大阪がエレクロ、電気泳動、可変反射吸収素子に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 奇美実業股ふん有限公司が炭素―炭素不飽和結合外反応のその他樹脂等に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 奇美実業股ふん有限公司がけい素重合体に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年10月 撤　退 ＳＢＣ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 日本電産シンポ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 三菱アルミニウム株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 アイエムエスイオネンミクロファブリカティオーンスシステメゲゼルシャフトエム・ベー・ハーが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 コンプレツクスフルイツドシステムズ，インコーポレーテツドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 富士フイルム株式会社 の技術「 ポジ型フォトレジスト組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/11）

• 消滅 メルクパフォーマンスマテリアルズ合同会社 の技術「 深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/09）

• 消滅 富士フイルム株式会社 の技術「 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/08）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者