半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年10月～ 2021年10月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2021年8月 横　展　開 壁の仕上げ分野から株式会社ダン・タクマが新規参入したことが分かりました。
• 2021年6月 横　展　開 インクジェット（インク供給、その他）分野からマイクロクラフト株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 スクリーン印刷機分野からＡＩメカテック株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 人工魚礁分野から国立大学法人金沢大学が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 植物の栽培分野からヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人大阪が硫黄、窒素等及びそれらの化合物；過化合物に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学が地中削孔に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学が医薬品製剤に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学が蛋白脂質酵素含有：その他の医薬に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 横　展　開 公立大学法人富山県立大学が抗原、抗体含有医薬：生体内診断剤に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年9月 撤　退 東都化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年9月 撤　退 株式会社丸五技研が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年9月 撤　退 株式会社目白プレシジョンが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年8月 撤　退 ヘレーウスノーブルライトゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年8月 撤　退 エーエスエムエルマスツールズビー．ブイ．が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 富士フイルムホールディングス株式会社 の技術「 ネガ型レジスト組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2021/10/19）

• 消滅 大日本印刷株式会社 の技術「 フォトマスクデータ表示装置用の面積計算装置及びフォトマスクデータの表示装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/10/19）

• 消滅 大日本印刷株式会社 の技術「 フォトマスクデータの表示装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/10/19）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者