半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2010年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2010年7月～ 2020年7月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2019年7月 横　展　開 液位または流動性固体のレベルの測定分野からバーサムマテリアルズユーエス，リミティドライアビリティカンパニーが新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 横　展　開 供給、排出、か焼、融解、ガス発生分野からアーエスエム・イーぺー・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップが新規参入したことが分かりました。
• 2019年5月 横　展　開 ウイング開閉機構；ウイング用付属品分野から株式会社サカエが新規参入したことが分かりました。
• 2019年4月 横　展　開 教示用装置分野から興研株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 プラズマの発生及び取扱い分野からトーキョーエレクトロンユーエスホールディングス、インコーポレイテッドが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2020年6月 横　展　開 バーサムマテリアルズユーエス，リミティドライアビリティカンパニーがＭＯＳＩＣ，バイポーラ・ＭＯＳＩＣに新規参入したことが分かりました。
• 2020年6月 横　展　開 バーサムマテリアルズユーエス，リミティドライアビリティカンパニーが絶縁ゲート型電界効果トランジスタに新規参入したことが分かりました。
• 2020年6月 横　展　開 アーエスエム・イーぺー・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップが絶縁膜の形成に新規参入したことが分かりました。
• 2020年6月 横　展　開 ホーヤエレクトロニクスシンガポールプライベートリミテッドが光学的手段による材料の調査の特殊な応用に新規参入したことが分かりました。
• 2020年6月 横　展　開 住友精化株式会社がベルト・チェーンに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2020年4月 撤　退 日機装株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年4月 撤　退 ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年3月 撤　退 ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツングが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年3月 撤　退 モーゼル．ヴァイテリック．インコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年3月 撤　退 プロモス．テクノロジイズ．インコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 芝浦メカトロニクス株式会社 の技術「 スピン処理装置」の特許権利が消滅しました。

  （2020/06/30）

• 消滅 住友化学株式会社 の技術「 化学増幅型レジスト組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2020/06/30）

• 消滅 東京エレクトロン株式会社 の技術「 液処理装置および液処理方法」の特許権利が消滅しました。

  （2020/06/30）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者