絶縁膜の形成

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年6月～ 2021年6月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2021年5月 横　展　開 光起電力装置分野からメカロカンパニーリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 横　展　開 磁気記録担体分野からジャパンクリエイト株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 異分野参入 要素組合せによる可変情報用表示装置２分野からフレックステッラ・インコーポレイテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2021年3月 異分野参入 第４族元素を含む化合物及びその製造分野からテクノセミケムシーオー．，エルティーディー．が新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 同定コンビナトリアル技術分野からボードオブトラスティーズオブザユニバーシティーオブイリノイが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年5月 横　展　開 公立大学法人兵庫県立大学が酵素・酵素の調製に新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 横　展　開 エフイーアイカンパニーが圧電、電歪、磁歪装置に新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 異分野参入 エフイーアイカンパニーが位置、方向の制御に新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 異分野参入 国立大学法人熊本大学が複合演算に新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 異分野参入 東芝インフラシステムズ株式会社が異常な外部の影響に耐えるための建築物に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年5月 撤　退 台灣茂せき電子股ふん有限公司が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年5月 撤　退 スピードファム株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年4月 撤　退 株式会社槌屋が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年4月 撤　退 トリコンエクウィプメンツリミテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年3月 撤　退 モーゼルヴィテリックインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 ジニテックインク． の技術「 薄膜形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/06/08）

• 消滅 三星電子株式會社 の技術「 ヘキサクロロジシランおよびアンモニアを用いた原子層蒸着によるシリコン含有固体薄膜の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/06/08）

• 消滅 東日本電信電話株式会社 の技術「 薄膜形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/06/08）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者