絶縁膜の形成

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年12月～ 2019年12月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2019年8月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野からアンドレアスフロムホルドが新規参入したことが分かりました。
• 2019年8月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野からラダ，トーマスが新規参入したことが分かりました。
• 2019年8月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野からアレックスフィリップグラハムロビンソンが新規参入したことが分かりました。
• 2019年8月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野からアーエスエム・イーぺー・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップが新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 横　展　開 食品の保存（凍結・冷却・乾燥を除く）分野からサウスバンクユニバーシティエンタープライジーズリミテッドが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年9月 横　展　開 ボードオブリージェンツオブザユニバーシティオブテキサスシステムが一次電池（その１）に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 ビーオーイーテクノロジーグループカンパニーリミテッドが半導体集積回路に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 異分野参入 東芝メモリ株式会社が光学的手段による測長計器に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 東芝インフラシステムズ株式会社が継電器回路に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 横　展　開 国立大学法人山形大学がＭＯＳＩＣ，バイポーラ・ＭＯＳＩＣに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年10月 撤　退 ラップマスターエスエフティ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 株式会社スーパーシリコン研究所が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年9月 撤　退 株式会社ミツトヨが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年8月 撤　退 コンソルジオイーグルが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年8月 撤　退 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 の技術「 化合物半導体装置及びその製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/12/10）

• 消滅 ソニー株式会社 の技術「 半導体装置の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/12/09）

• 消滅 株式会社日立国際電気 の技術「 半導体装置の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/24）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者