絶縁膜の形成

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2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年7月～ 2019年7月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2019年6月 横　展　開 食品の保存（凍結・冷却・乾燥を除く）分野からサウスバンクユニバーシティエンタープライジーズリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2019年5月 異分野参入 ＣＶＤ分野からテスカンパニー、リミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 音声認識分野から株式会社デンソー岩手が新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 異分野参入 レーザ加工分野からルメンタムオペレーションズエルエルシーが新規参入したことが分かりました。
• 2019年2月 横　展　開 肥料分野から宇部マテリアルズ株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年6月 異分野参入 国立大学法人佐賀大学が放射線診断機器に新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 異分野参入 地方独立行政法人大阪産業技術研究所が環境に敏感な生物、食品又は薬品の包装に新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 異分野参入 地方独立行政法人大阪産業技術研究所が包装体に新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 異分野参入 地方独立行政法人大阪産業技術研究所が被包材に新規参入したことが分かりました。
• 2019年6月 異分野参入 シリコンストーリッジテクノロージーインコーポレイテッドが学習型計算機に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年6月 撤　退 ジャパンエナジー電子材料株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年6月 撤　退 イーエム・ミクロエレクトロニク−マリン・エスアーが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年6月 撤　退 ユーシーティー株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年5月 撤　退 ジエ・ウー・セー・アルストム・トランスポール・エス・アーが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年5月 撤　退 アラインドシグナルインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 日本電気株式会社 の技術「 薄膜半導体素子の製造方法及び薄膜半導体形成装置」の特許権利が消滅しました。

  （2019/07/15）

• 消滅 ＪＳＲ株式会社 の技術「 膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料」の特許権利が消滅しました。

  （2019/07/12）

• 消滅 マイクロンテクノロジーインク の技術「 二酸化シリコン層の形成方法、及びトレンチ分離領域の形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/07/09）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者