洗浄、機械加工

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年1月～ 2019年1月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年11月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野からヨンチャンケミカルカンパニーリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 異分野参入 電話機の構造分野から力祥半導體股フン有限公司が新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 横　展　開 リフト弁、スライド弁、回転弁、その他の弁分野からアクロス株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 横　展　開 嵌合装置及び印刷回路との接合分野からヴィシェイジェネラルセミコンダクター，エルエルシーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 横　展　開 サイクロン分野からパロアルトリサーチセンターインコーポレイテッドが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2018年11月 横　展　開 パロアルトリサーチセンターインコーポレイテッドが半導体装置の製造、組立てに新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 横　展　開 パロアルトリサーチセンターインコーポレイテッドがアンテナの細部に新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 異分野参入 学校法人近畿大学が建築構造の接合一般に新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 異分野参入 学校法人近畿大学が異常な外部の影響に耐えるための建築物に新規参入したことが分かりました。
• 2018年11月 異分野参入 アイシン精機株式会社が荷積み、荷おろしに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2018年12月 撤　退 エフエスアイインターナショナルが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年12月 撤　退 一般財団法人電力中央研究所が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年12月 撤　退 ラベーユ・ソシエテ・アノニムが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年12月 撤　退 株式会社カツラヤマテクノロジーが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年11月 撤　退 株式会社レナテックが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 株式会社東芝 , ＪＳＲ株式会社 の技術「 半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体及び半導体装置の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/01/18）

• 消滅 株式会社東芝 , ＪＳＲ株式会社 の技術「 半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用複合粒子及びその製造方法並びにそれを用いる化学機械研磨方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/01/18）

• 消滅 株式会社東芝 , ＪＳＲ株式会社 の技術「 半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体及び半導体装置の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/01/18）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者