半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2008年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2008年11月～ 2018年11月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2014年7月 異分野参入 静的メモリのアクセス制御分野からユニサンティスエレクトロニクスシンガポールプライベートリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2014年7月 横　展　開 電力量計器；電力、力率の測定；試験、較正分野から日本電産リード株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2014年6月 異分野参入 非携帯用の照明装置またはそのシステム分野から株式会社清和光学製作所が新規参入したことが分かりました。
• 2014年6月 異分野参入 ホトレジスト感材への露光・位置合せ分野からレインボーテクノロジーシステムズリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2014年4月 横　展　開 紙容器等紙製品の製造分野から出光ユニテック株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2018年10月 異分野参入 出光ユニテック株式会社が機械部品及び巻回された物品の包装に新規参入したことが分かりました。
• 2018年10月 異分野参入 学校法人関東学院が物理蒸着に新規参入したことが分かりました。
• 2018年10月 横　展　開 オイレス工業株式会社が鉄道車両の細部に新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 横　展　開 日本電産リード株式会社が一般用変成器のコイルに新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 横　展　開 日本電産リード株式会社が電気コイル一般に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2018年10月 撤　退 ランテクニカルサービス株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年10月 撤　退 株式会社イワキが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年10月 撤　退 フラオンホーファーゲゼルシャフトツールフェルデルングデルアンゲヴァンテンフォルシュングエーファオが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年10月 撤　退 株式会社テラテックが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年9月 撤　退 東邦化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 東京エレクトロン株式会社 の技術「 塗布装置及び塗布方法」の特許権利が消滅しました。

  （2018/11/20）

• 消滅 アイメックヴィーゼットダブリュー の技術「 半導体基板表面からの有機汚染物の除去方法」の特許権利が消滅しました。

  （2018/11/20）

• 消滅 キヤノン株式会社 の技術「 露光方法」の特許権利が消滅しました。

  （2018/11/20）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者