半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2008年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2008年9月～ 2018年9月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2014年7月 異分野参入 静的メモリのアクセス制御分野からユニサンティスエレクトロニクスシンガポールプライベートリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2014年7月 横　展　開 電力量計器；電力、力率の測定；試験、較正分野から日本電産リード株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2014年6月 異分野参入 非携帯用の照明装置またはそのシステム分野から株式会社清和光学製作所が新規参入したことが分かりました。
• 2014年6月 異分野参入 ホトレジスト感材への露光・位置合せ分野からレインボーテクノロジーシステムズリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2014年4月 横　展　開 けい素重合体分野からアーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2018年8月 異分野参入 学校法人関東学院が化学反応による材料の光学的調査・分析に新規参入したことが分かりました。
• 2018年8月 異分野参入 特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構が光学的手段による材料の調査の特殊な応用に新規参入したことが分かりました。
• 2018年7月 横　展　開 学校法人関東学院が錠；そのための付属具に新規参入したことが分かりました。
• 2018年7月 異分野参入 学校法人関東学院が車両の内装・外装、防音・断熱に新規参入したことが分かりました。
• 2018年7月 異分野参入 学校法人関東学院が車両のドアに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2018年8月 撤　退 マットソンテクノロジーインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年8月 撤　退 株式会社エスケーシステムが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年8月 撤　退 クンホセオキュホアハクジュシクヘサが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年7月 撤　退 ザ・ボード・オブ・スーパーバイザーズ・オブ・ルイジアナ・ステート・ユニバーシティー・アンド・アグリカルチュラル・アンド・メカニカル・カレッジが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年7月 撤　退 エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 株式会社オーク製作所 の技術「 ワークとマスクの整合機構および整合方法」の特許権利が消滅しました。

  （2018/09/18）

• 消滅 住友化学株式会社 の技術「 レジスト組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2018/09/18）

• 消滅 東京エレクトロン株式会社 の技術「 処理装置」の特許権利が消滅しました。

  （2018/09/18）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者