半導体のドライエッチング

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2008年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2008年10月～ 2018年10月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年9月 横　展　開 微生物・酵素関連装置分野からフラウンホーファー−ゲゼルシャフト・ツール・フェルデルング・デル・アンゲヴァンテン・フォルシュング・アインゲトラーゲネル・フェラインが新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 異分野参入 対水表面処理用物質分野からセココーポレイションリミテッドが新規参入したことが分かりました。
• 2018年8月 異分野参入 ガス貯蔵容器；ガスの充填・放出分野からエール・リキード・エレクトロニクス・システムズが新規参入したことが分かりました。
• 2018年7月 横　展　開 排気の後処理分野からワトローエレクトリックマニュファクチャリングカンパニーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年6月 横　展　開 履物及びその付属品、製法、装置分野から国立大学法人横浜国立大学が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2018年9月 異分野参入 ケンブリッジディスプレイテクノロジーリミッテドが蛍光または発光による材料の調査，分析に新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 異分野参入 ケンブリッジディスプレイテクノロジーリミッテドが生物学的材料の調査，分析に新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 異分野参入 ケンブリッジディスプレイテクノロジーリミッテドが化学反応による材料の光学的調査・分析に新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 異分野参入 サントレナティオナルドラルシェルシェシアンティフィクが抽出、液体の置換に新規参入したことが分かりました。
• 2018年9月 異分野参入 サントレナティオナルドラルシェルシェシアンティフィクが金属の製造または精製に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2018年9月 撤　退 アプライドマテリアルズが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年9月 撤　退 技術研究組合オングストロームテクノロジ研究機構が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年9月 撤　退 サントルナスィオナルデラルシェルシェスィアンティフィークが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年9月 撤　退 加賀東芝エレクトロニクス株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2018年8月 撤　退 東京瓦斯株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 ＮＵエコ・エンジニアリング株式会社 の技術「 プラズマ処理装置における炭素原子ラジカル測定用炭素原子光発生装置」の特許権利が消滅しました。

  （2018/10/16）

• 消滅 ＮＵエコ・エンジニアリング株式会社 の技術「 原子状ラジカル測定方法及び装置」の特許権利が消滅しました。

  （2018/10/16）

• 消滅 三星電子株式會社 の技術「 マルチ−チャンバーシステムで半導体素子を製造する方法」の特許権利が消滅しました。

  （2018/10/15）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者