流体と固体粒子存在下でのプロセス及び装置

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年3月～ 2021年3月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2020年11月 横　展　開 機械的振動の発生装置分野から信越石英株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2020年11月 横　展　開 照明装置の配光に係わる部品細部及び防護分野からヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングが新規参入したことが分かりました。
• 2020年11月 異分野参入 炉の廃ガス処理、炉の付属装置（炉一般４）分野からガステクノロジーインスティテュートが新規参入したことが分かりました。
• 2020年10月 横　展　開 器械の細部分野からヤマト科学株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2020年9月 横　展　開 クレジットカード等分野から戸田工業株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年2月 異分野参入 三鷹光器株式会社がカメラの付属品に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 トヨタ紡織株式会社がフィードバック制御一般に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 中国石油化工股ふん有限公司がコークス工業に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 中国科学院過程工程研究所が酸素；オゾン；酸化物一般に新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 横　展　開 トヨタ紡織株式会社が物品の選別に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年2月 撤　退 スディーヴ・オダットが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 ウイリアム・タキウクが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 チャーリー・ホイーラーが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 ゴードン・タキウクが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 アマノ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 株式会社荏原製作所 の技術「 脱硫方法及び装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/03/01）

• 消滅 中国石油化工股分有限公司 , 中国石油化工集団公司石油化工科学研究院 の技術「 再生触媒により運ばれる煙道ガスを除去するためのストリッパーおよびストリッピング方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/26）

• 特許 株式会社ＩＨＩ の技術「 流動層システム」が登録されたことがわかりました。

  （2021/02/08）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者