硫黄、窒素等及びそれらの化合物；過化合物

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年3月～ 2021年3月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2021年1月 横　展　開 クレジットカード等分野からコーリア・リサーチ・インスティチュート・オブ・ケミカル・テクノロジーが新規参入したことが分かりました。
• 2020年12月 横　展　開 生地の製造装置または加工装置分野から日清エンジニアリング株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2020年10月 異分野参入 有機低分子化合物及びその製造分野から上海如鯤新材料有限公司が新規参入したことが分かりました。
• 2020年10月 異分野参入 医療品保存・内服装置分野から株式会社ＫＯＲＴＵＣが新規参入したことが分かりました。
• 2020年8月 横　展　開 クレジットカード等分野からナショナルリサーチカウンシルオブカナダが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年2月 異分野参入 國家中山科學研究院がダイオードに新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 國家中山科學研究院が二次装置を有するアンテナに新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 国立大学法人東京農工大学が硫黄原子を含む複素環式化合物に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 異分野参入 国立大学法人東京農工大学が電場又は磁場に対する装置又は部品の遮蔽に新規参入したことが分かりました。
• 2021年2月 横　展　開 東芝インフラシステムズ株式会社が能動素子を用いた回路網に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年1月 撤　退 ファインセラミックス技術研究組合が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 株式会社ＪＶＣケンウッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 日本化学機械製造株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 ライオン株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年11月 撤　退 ビィーゴ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 イエーダリサーチアンドデベロップメントカンパニーリミテッド の技術「 無機性のフラーレン状二硫化タングステンの中空のナノ粒子およびナノチューブ製造用反応器」の特許権利が消滅しました。

  （2021/03/06）

• 消滅 国立研究開発法人物質・材料研究機構 の技術「 スピネル型窒化ゲルマニウム粉末の製造法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/26）

• 消滅 バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング の技術「 ヒドロキシルアミン溶液用の安定化剤」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/14）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者