ホトレジスト感材への露光・位置合せ

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年7月～ 2021年7月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年6月 横　展　開 粉末冶金分野からトーヨカラー株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年6月 横　展　開 特殊なサイクルを用いた機関設備分野から国立大学法人北見工業大学が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野から株式会社クォークテクノロジーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 異分野参入 剛性または準剛性容器の細部分野から東洋製版株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 詰物、皮張りされた物品及びその製法分野から住友理工株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年6月 異分野参入 東芝エネルギーシステムズ株式会社が展示カード類に新規参入したことが分かりました。
• 2021年6月 異分野参入 カンタツ株式会社が電気装置の冷却等に新規参入したことが分かりました。
• 2021年6月 異分野参入 カンタツ株式会社が半導体または固体装置の冷却等に新規参入したことが分かりました。
• 2021年6月 異分野参入 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学がプリント基板への印刷部品（厚膜薄膜部品）に新規参入したことが分かりました。
• 2021年6月 横　展　開 国立大学法人静岡大学が飛行船・気球・飛行機に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年6月 撤　退 セメス株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年6月 撤　退 有限会社るなんが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年6月 撤　退 株式会社日本美宝が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年6月 撤　退 日本フェンオール株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年6月 撤　退 クレオエスアールエルが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 キヤノン株式会社 の技術「 半導体製造装置及びその制御方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/07/24）

• 消滅 イーユーヴィーリミテッドリアビリティコーポレーション の技術「 超紫外線リソグラフィーコンデンサに用いる回折スペクトルフィルタ」の特許権利が消滅しました。

  （2021/07/20）

• 消滅 独立行政法人産業技術総合研究所 の技術「 荷電粒子ビーム装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/07/19）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者