ホトレジスト感材への露光・位置合せ

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年3月～ 2021年3月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年6月 横　展　開 粉末冶金分野からトーヨカラー株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年6月 横　展　開 特殊なサイクルを用いた機関設備分野から国立大学法人北見工業大学が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野から株式会社クォークテクノロジーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 異分野参入 剛性または準剛性容器の細部分野から東洋製版株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 詰物、皮張りされた物品及びその製法分野から住友理工株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年1月 異分野参入 東芝エネルギーシステムズ株式会社がカ－ドリ－ダライタ及び複合周辺装置に新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 横　展　開 株式会社横河ブリッジが足場に新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 横　展　開 トーキョーエレクトロンユーエスホールディングス、インコーポレイテッドが総合的工場管理に新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 異分野参入 トーキョーエレクトロンユーエスホールディングス、インコーポレイテッドが半導体装置の製造処理一般に新規参入したことが分かりました。
• 2021年1月 異分野参入 北京京東方顯示技術有限公司がＭＯＳＩＣ，バイポーラ・ＭＯＳＩＣに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年3月 撤　退 ラムダ・フィジーク・アクチエンゲゼルシャフトが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 韓国化学研究院が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 株式会社フジタが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年2月 撤　退 株式会社ジーエス・ユアサコーポレーションが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 ケービーティーイーエム−オーエムオーステイトサイエンティフィックアンドプロダクションエンタープライスが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 化学増幅ポジ型レジスト材料」の特許権利が消滅しました。

  （2021/03/02）

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 化学増幅ポジ型レジスト材料」の特許権利が消滅しました。

  （2021/03/02）

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/03/01）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者