ホトレジスト感材への露光・位置合せ

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年4月～ 2019年4月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年6月 横　展　開 特殊なサイクルを用いた機関設備分野から国立大学法人北見工業大学が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野から株式会社クォークテクノロジーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 異分野参入 剛性または準剛性容器の細部分野から東洋製版株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 詰物、皮張りされた物品及びその製法分野から住友理工株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年2月 横　展　開 回折格子、偏光要素、ホログラム光学素子分野から有限会社ハイメックが新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年3月 異分野参入 東芝エネルギーシステムズ株式会社が孔内観察装置に新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 横　展　開 東芝エネルギーシステムズ株式会社が金属質粉又はその懸濁液の製造に新規参入したことが分かりました。
• 2019年3月 異分野参入 住友理工株式会社が体操訓練用具に新規参入したことが分かりました。
• 2019年2月 横　展　開 フォーガルナノテックがマニプレータに新規参入したことが分かりました。
• 2019年2月 異分野参入 東芝メモリ株式会社が有線伝送方式及び無線の等化，エコーの低減に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年3月 撤　退 アイシージーリミテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年3月 撤　退 新中村化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年3月 撤　退 株式会社東京テクノロジーが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年2月 撤　退 ウィスコンシンアラムニリサーチファンデーションが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年2月 撤　退 アソシエイテッドユニヴァーシティーズインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 の技術「 感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品」の特許権利が消滅しました。

  （2019/04/16）

• 消滅 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 の技術「 感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品」の特許権利が消滅しました。

  （2019/04/16）

• 消滅 キヤノン株式会社 の技術「 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/04/16）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者