ホトレジスト感材への露光・位置合せ

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年10月～ 2021年10月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年6月 横　展　開 粉末冶金分野からトーヨカラー株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年6月 横　展　開 特殊なサイクルを用いた機関設備分野から国立大学法人北見工業大学が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野から株式会社クォークテクノロジーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 異分野参入 剛性または準剛性容器の細部分野から東洋製版株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 詰物、皮張りされた物品及びその製法分野から住友理工株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年9月 異分野参入 東芝デバイス＆ストレージ株式会社が熱的手段による材料の調査、分析に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 異分野参入 ネーデルランツオルガニサティーフォールトゥーゲパストナトゥールヴェテンシャッペリークオンデルズークテーエンオーが要素組合せによる可変情報用表示装置２に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 異分野参入 ネーデルランツオルガニサティーフォールトゥーゲパストナトゥールヴェテンシャッペリークオンデルズークテーエンオーが要素組合せによる可変情報用表示装置１に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 異分野参入 東芝エネルギーシステムズ株式会社が反射叉は再輻射を用いない距離、速度の測定に新規参入したことが分かりました。
• 2021年9月 異分野参入 東芝デバイス＆ストレージ株式会社が一般用変成器のコイルに新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年9月 撤　退 東都化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年9月 撤　退 株式会社丸五技研が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年9月 撤　退 株式会社目白プレシジョンが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年8月 撤　退 エーエスエムエルマスツールズビー．ブイ．が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年8月 撤　退 錦湖石油化學株式會社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 富士フイルムホールディングス株式会社 の技術「 ネガ型レジスト組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2021/10/19）

• 消滅 イーリスエルエルシー , エイジャーシステムズインコーポレイテッド の技術「 荷電粒子投射リソグラフィ・システムにおける空間電荷に起因する収差を抑制する装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/10/19）

• 消滅 大日本印刷株式会社 の技術「 フォトマスクデータ表示装置用の面積計算装置及びフォトマスクデータの表示装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/10/19）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者