ホトレジスト感材への露光・位置合せ

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年11月～ 2019年11月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年6月 横　展　開 特殊なサイクルを用いた機関設備分野から国立大学法人北見工業大学が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野から株式会社クォークテクノロジーが新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 異分野参入 剛性または準剛性容器の細部分野から東洋製版株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年4月 横　展　開 詰物、皮張りされた物品及びその製法分野から住友理工株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年2月 異分野参入 顕微鏡、コンデンサー分野から横浜リーディングデザイン合資会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年9月 異分野参入 エスエルエムソルーションズグループアーゲーが光学的手段による測長装置に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 異分野参入 東芝エネルギーシステムズ株式会社が数値制御に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 異分野参入 伸和コントロールズ株式会社が突合せ溶接及び特定物品の溶接に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 異分野参入 伸和コントロールズ株式会社が積層体（２）に新規参入したことが分かりました。
• 2019年9月 異分野参入 東芝メモリ株式会社が光学的手段による測長計器に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年10月 撤　退 ＳＢＣ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 日本電産シンポ株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 三菱アルミニウム株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 ザガバナアンドカンパニイオブザバンクオブイングランドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年10月 撤　退 アイエムエスイオネンミクロファブリカティオーンスシステメゲゼルシャフトエム・ベー・ハーが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/12）

• 消滅 富士フイルム株式会社 の技術「 ポジ型フォトレジスト組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/11）

• 消滅 メルクパフォーマンスマテリアルズ合同会社 の技術「 深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物」の特許権利が消滅しました。

  （2019/11/09）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者