写真製版における原稿準備・マスク

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年8月～ 2021年8月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年4月 横　展　開 紙容器等紙製品の製造分野から相互印刷株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 マニプレータ分野からミクロ技研株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 蒸気ボイラの細部分野からエア・ウォーター株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年10月 横　展　開 空気の供給分野からＪＸ金属株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年8月 横　展　開 管路系分野から関東化學株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年6月 横　展　開 ＪＸ金属株式会社が石材または石材類似材料の加工に新規参入したことが分かりました。
• 2021年5月 異分野参入 エア・ウォーター株式会社が抗原、抗体含有医薬：生体内診断剤に新規参入したことが分かりました。
• 2021年4月 横　展　開 ＪＸ金属株式会社が中間熱伝達媒体をもつ熱交換装置に新規参入したことが分かりました。
• 2021年3月 横　展　開 エア・ウォーター株式会社が収穫機本体（２）（地下収穫）に新規参入したことが分かりました。
• 2021年3月 異分野参入 エア・ウォーター株式会社が管の敷設に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年7月 撤　退 ケンブリッジセンサーズリミティドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年7月 撤　退 グラフテック株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年6月 撤　退 ブラザー工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年6月 撤　退 ライカマイクロシステムスヴェツラーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年5月 撤　退 株式会社ミツトヨが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 凸版印刷株式会社 の技術「 フォトマスクパターン形状自動計測方法及びその装置及びそのプログラム及びフォトマスク製造方法及び半導体装置の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/08/01）

• 消滅 ＨＯＹＡＴｅｃｈｎｏｓｕｒｇｉｃａｌ株式会社 の技術「 ＥＵＶ光露光用反射型マスクブランクおよびＥＵＶ光露光用反射型マスク」の特許権利が消滅しました。

  （2021/07/30）

• 消滅 エーエスエムエルネザーランズビー．ヴイ． , アスムルマスクツールズビー．ブイ． の技術「 リソグラフィ投影に使うための補助形態」の特許権利が消滅しました。

  （2021/07/19）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者