写真製版における原稿準備・マスク

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2009年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2009年6月～ 2019年6月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年4月 横　展　開 紙容器等紙製品の製造分野から相互印刷株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 マニプレータ分野からミクロ技研株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 蒸気ボイラの細部分野からエア・ウォーター株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年10月 横　展　開 空気の供給分野からＪＸ金属株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年8月 横　展　開 管路系分野から関東化學株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2019年5月 異分野参入 東芝メモリ株式会社が航行（Ｎａｖｉｇａｔｉｏｎ）に新規参入したことが分かりました。
• 2019年5月 異分野参入 アップル・コンピュータ・インコーポレイテッドが車両用空気調和に新規参入したことが分かりました。
• 2019年5月 横　展　開 アップル・コンピュータ・インコーポレイテッドが車両の電気的な推進・制動に新規参入したことが分かりました。
• 2019年5月 異分野参入 インスティテューシオカタラーナデレサーカイエストゥーディスアバンキャッツが医薬品製剤に新規参入したことが分かりました。
• 2019年5月 異分野参入 インスティテューシオカタラーナデレサーカイエストゥーディスアバンキャッツが医療用材料に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2019年5月 撤　退 ハーエスエムホログラフィックジステームスミュンヘンゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年5月 撤　退 旭フォトマイクロウエア株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年5月 撤　退 岩崎電気株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年3月 撤　退 葛川工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2019年2月 撤　退 日本合成化学工業株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 特許 ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト , 信越石英株式会社 の技術「 ＥＵＶリソグラフィ用チタンドープシリカガラスのミラー基板ブランクの製造方法及びブランク中の欠陥の位置を決定するためのシステム」が登録されたことがわかりました。

  （2019/05/24）

• 消滅 三星電子株式會社 の技術「 半導体装置のレイアウト方法及びその半導体装置」の特許権利が消滅しました。

  （2019/05/21）

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 フォトマスク用合成石英ガラス基板の製造方法」の特許権利が消滅しました。

  （2019/05/21）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者