写真製版における原稿準備・マスク

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2011年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2011年3月～ 2021年3月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年4月 横　展　開 紙容器等紙製品の製造分野から相互印刷株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 マニプレータ分野からミクロ技研株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 蒸気ボイラの細部分野からエア・ウォーター株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年10月 横　展　開 空気の供給分野からＪＸ金属株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年8月 横　展　開 管路系分野から関東化學株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2021年1月 横　展　開 関東化學株式会社が光起電力装置に新規参入したことが分かりました。
• 2020年12月 異分野参入 ＪＸ金属株式会社が中和・改質に新規参入したことが分かりました。
• 2020年12月 横　展　開 国立大学法人北見工業大学が橋または陸橋に新規参入したことが分かりました。
• 2020年12月 異分野参入 ノキアモービルフォーンズリミテッドが素子分離に新規参入したことが分かりました。
• 2020年11月 異分野参入 ＪＸ金属株式会社がつきさし又はネジ・ナットによる接続に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2021年2月 撤　退 株式会社アルモウルドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2021年1月 撤　退 インフィニオンテクノロジーズノースアメリカコーポレイションが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年12月 撤　退 ＡＧＣエレクトロニクス株式会社が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年12月 撤　退 株式会社オゼットクリエイティブが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年12月 撤　退 株式会社小郷ゴム印製作所が撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 信越化学工業株式会社 の技術「 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク」の特許権利が消滅しました。

  （2021/03/01）

• 消滅 シノプシイスインコーポレイテッド の技術「 混合モード光近接効果補正のための方法及び装置」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/26）

• 消滅 アスムルマスクツールズビー．ブイ． の技術「 フォトマスクの幾何形状を改良する方法」の特許権利が消滅しました。

  （2021/02/14）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者