写真製版における原稿準備・マスク

分野別法人力スコア^※に基づくシェアにより、ランキングを掲載しています。

2010年～現在までの特許出願のデータを参考にしています。

2010年8月～ 2020年8月までの特許出願のデータを参考にしています。

この分野への新規参入

• 2018年4月 横　展　開 紙容器等紙製品の製造分野から相互印刷株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 マニプレータ分野からミクロ技研株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2018年3月 横　展　開 蒸気ボイラの細部分野からエア・ウォーター株式会社が新規参入したことが分かりました。
• 2017年12月 横　展　開 半導体の露光（電子、イオン線露光を除く）分野からレイヴリミテッドライアビリティカンパニーが新規参入したことが分かりました。
• 2017年10月 横　展　開 空気の供給分野からＪＸ金属株式会社が新規参入したことが分かりました。

他分野への技術展開

• 2020年5月 異分野参入 スリーエムイノヴェイティヴプロパティーズカンパニーがヘッドホーン・イヤホーンに新規参入したことが分かりました。
• 2020年5月 異分野参入 株式会社ＡＤＥＫＡが固体撮像素子に新規参入したことが分かりました。
• 2020年5月 異分野参入 ＪＸ金属株式会社が粘度、粘性・表面、境界、拡散効果の調査に新規参入したことが分かりました。
• 2020年5月 異分野参入 東芝メモリ株式会社がデジタル記録再生の信号処理に新規参入したことが分かりました。
• 2020年4月 異分野参入 ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトが光ファイバ、光ファイバ心線に新規参入したことが分かりました。

この分野からの撤退

• 2020年7月 撤　退 株式会社トッパンエヌイーシー・サーキットソリューションズが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年7月 撤　退 ユナイテッドマイクロエレクトロニクスコープ．が撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年6月 撤　退 株式会社アーツテックが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年6月 撤　退 エヌエックスピーユーエスエーインコーポレイテッドが撤退した可能性が高いことがわかりました。
• 2020年6月 撤　退 オーテイーシー−オプテイカル・テクノロジーズ・センター・エス・アール・エルが撤退した可能性が高いことがわかりました。

この分野における最新動向

• 消滅 ＮＴＮ株式会社 の技術「 パターン修正方法」の特許権利が消滅しました。

  （2020/07/31）

• 消滅 大日本印刷株式会社 の技術「 基板選択装置」の特許権利が消滅しました。

  （2020/07/31）

• 消滅 メンターグラフィックスコーポレイション の技術「 集積回路の位相シフトおよびトリム・マスクを決定する方法および装置」の特許権利が消滅しました。

  （2020/07/28）

この分野の技術一覧

この分野の主な発明者