株式会社エスケーエレクトロニクス

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この法人の
活動状況
  • 2018年7月 化学,冶金の分野に新規参入した可能性が高いことが分かりました。
  • 2008年1月 処理操作,運輸の分野に新規参入した可能性が高いことが分かりました。
  • 1999年5月 物理学の分野に新規参入した可能性が高いことが分かりました。
  • 1998年12月 電気の分野に新規参入した可能性が高いことが分かりました。

株式会社エスケーエレクトロニクス の「提携・競合」関係

株式会社エスケーエレクトロニクス が強みを持つ分野

原稿の修正
位置合せ用
【写真製版における原稿準備・マスク】マーク、その他* - マーク、信号 - 製造
【写真製版における原稿準備・マスク】検査、修正 - 修正 - メッキ、蒸着、CVD
【写真製版における原稿準備・マスク】製造 - リソグラフィー - 露光 - ビーム露光 - レーザー

株式会社エスケーエレクトロニクス に関わりのある主な発明者

参入・撤退などの活動状況

2017年6月~2020年6月までの特許出願のデータを参考にしています。

参入・撤退の状況概観

株式会社エスケーエレクトロニクス

撤退した分野

0分野

2017年6月~2020年6月の期間において撤退した分野はありません

異分野参入・
横展開した分野

1分野
  • 2018年7月 異分野参入 化学,冶金の分野に新規参入した可能性が高いことが分かりました。

サイト情報について

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主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ

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に関する技術履歴

株式会社エスケーエレクトロニクスの技術一覧