新規なジベンゾイルメタン系化合物、光活性化性太陽光線遮断剤としての使用及びこの化合物を含有する化粧料組成物の特許を出願したことがわかりました。
(2004/07/15)
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2018年1月~2021年1月までの特許出願のデータを参考にしています。
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2018年1月~2021年1月の期間において異分野参入・横展開した分野はありません
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新規なジベンゾイルメタン系化合物、光活性化性太陽光線遮断剤としての使用及びこの化合物を含有する化粧料組成物の特許を出願したことがわかりました。
(2004/07/15)
胞状材料の製造用中間標準単位生成物、この生成物の製造方法及び装置、胞状材料を得る応用の特許を出願したことがわかりました。
(1988/05/11)